El gigante tecnológico Samsung ha anunciado que ha dado inicio al proceso de muestreo de sus chips de 5 nanómetros (nm), ofreciendo otro nodo vanguardista para su nueva oferta de Litografía del Ultravioleta Extremo (EUV).

En concreto, el proceso FinFET para la creación de chips de 5 nm de Samsung aumenta hasta en un 25 por ciento la eficiencia del “área lógica” con respecto a su proceso de 7 nm. Asimismo, la nueva tecnología facilita un 20 por ciento menos de consumo energético y 10 por ciento de mayor rendimiento. A través de un comunicado, la compañía dijo:

Otro beneficio clave de 5nm es que podemos reutilizar toda la propiedad intelectual (IP) de 7nm a 5nm. Por lo tanto, la transición de los clientes de 7 nm a 5 nm se beneficiará enormemente de la reducción de los costos de migración, del ecosistema de diseño pre-verificado y, por consiguiente, acortará su desarrollo de productos de 5 nm.

Anteriormente, la compañía surcoreana ofreció algunas muestras comerciales de sus primeros productos de EUV, y anunció el inicio de la producción en masa de hardware de 7 nm a principios de este año. Además, Samsung está trabajando conjuntamente con sus clientes en el desarrollo de 6 nm, un nodo de proceso que está basado en EUV.

Con motivo del anuncio, Shawn Han, Vicepresidente Senior del sector de fundición de la compañía, aseguró que la producción en masa de los chips de 5 nm comenzará en el segundo trimestre de 2020, lo que quiere decir que no veremos los primeros smartphones con procesadores basados en esta tecnología hasta finales del próximo año o incluso en 2021.

En todo caso, un 20 por ciento menos de consumo energético siempre es bienvenido, y ayudará en gran medida a los fabricantes de móviles a mejorar la vida útil de sus baterías. Por su parte, la optimización del rendimiento, pese a ser de solo un 10 por ciento, permitirá una mejor funcionalidad en los futuros dispositivos.